陸商務部：荷蘭曝光機應公平出口

美國設下層層關卡嚴堵中國進口最先進的曝光機，致中國難以提升半導體制造實力，中國商務部16日在中荷視訊會議上，對掌握光刻機（曝光機）關鍵廠商艾司摩爾（ASML）的荷蘭喊話，呼籲要在這些問題上秉持公平。

中國商務部官網公佈，商務部副部長、國際貿易談判副代表俞建華在16日下午與荷蘭外交部外貿與發展合作大臣卡格，以視訊方式主持召開中荷經貿混委會第17次會議，除了談論中荷、中歐經貿合作議題外，中國還在覈心技術領域進行表態。

俞建華指出，中國願意在服貿、電商等領域與荷蘭擴大合作，同時希望荷蘭在華爲5G、EUV曝光機等問題上秉持公平立場，兩國應落實好領導人共識，讓雙方經貿合作再提升。

曝光機是晶圓製造廠商的必要設備，當前最高等級的EUV曝光機更是臺積電、三星等研發先進製程的企業不可或缺的投資，而目前全球曝光機龍頭便是荷蘭廠商艾司摩爾，也僅有它有能力生產最先進的設備，故主流廠商都要向其進貨。

然而，艾司摩爾有許多專利技術來自美國，所以在當前在美國禁令下，如中國晶圓代工龍頭中芯國際就無法順利採購EUV曝光機。

艾司摩爾10月曾表示，不用通過美國的許可，就能直接從荷蘭向中國出口DUV曝光機產品，只是並未明確提及更先進的EUV曝光機能否出口。

另外，中國半導體行業協會集成電路設計分會理事長魏少軍17日指出，當前美國的管制對中國半導體設備以及材料兩領域的影響較大，中國在這兩個領域的發展也相對較慢，核心技術受制於人，產品處於中低端的情況還沒有徹底改變。