頭條揭密》陸晶片產業遭「卡脖子」 買到光刻機也難解決

一部光刻機有超過10萬個零組件，價格高達1.2億美元，是集多國最頂尖科技的超級複雜精密設備。圖爲光刻機內部結構示意圖。（圖／網路）

自從美國對中國發動貿易戰與科技戰，晶片產業遭到西方國家「卡脖子」的問題成爲大陸官方與民間輿論最關切的問題，連一般大陸民衆都在熱烈議論「做光刻機難，還是做氫彈難？」、「大陸比不過臺積電都是因爲沒有光刻機」。不過這畢竟是一般民衆的看法，以目前半導體科技發展狀況，就算讓大陸買到要的光刻機，還是缺乏高端製程技術，而這些技術的發展仍需要大量的資金、人力與時間的投入。

全球頂尖光刻機制造商荷蘭艾司摩爾(ASML)執行長公開指出，對中國實施尖端光刻機禁運，將導致中國自行研發製造，可能在3年後就能獲得技術突破，屆時將對全球光刻機市場造成震撼，甚至逼迫艾司摩爾退出市場。消息傳出引起各界熱議，有些媒體又拿出「集中力量辦大事」的口號，認爲應該整合人才與資金投入技術攻關，「以前的條件連氫彈都做得出來，現在底子更厚，造光刻機不會是問題」。而只要解決了光刻機，不僅「卡脖子」問題迎刃而解，還能超越臺積電等技術龍頭成爲產業領導者。

ASML 設於南科的EUV 技術培訓中心正在爲客戶訓練人員操作光刻機。（圖／路透）

大部份的專家都不敢看輕過去數十年來大陸在各項工業技術上的突飛猛進，雖然代價不小，但畢竟成果讓世人刮目相看。至於同樣的做法是否能在晶片產業上奏效，也仍有些爭議，尤其是現代電子科技整合的其他科技的狀況愈來愈複雜，要在短時間內趕上別人數十年的發展並不容易。

就以光刻機來說，其實大陸過去也一直都買得到光刻機，在DUV光刻機年代，臺積電一直用它做到7奈米等級，直到7奈米Plus與5奈米等級纔用到更先進的EUV光刻機。而大陸最先進的中芯國際，曾經下訂EUV光刻機，最後卻陰錯陽差地耽誤了交貨期，隨後便遭美國科技禁運。雖然如此，也一直都有ASML的DUV光刻機在線上生產。爛尾的武漢弘芯曾買過7奈米的EUV光刻機，但到貨還沒使用就被抵押出去，至今仍躺在銀行的倉庫裡。目前大陸國產光刻機的上海微電子從去年中就宣稱進入28奈米與14奈米，但是今年接受《日經新聞》訪問時表示，這兩個製程的成品率不高，仍有待持續改進。

荷蘭ASML高製程光刻機被禁止售予大陸後，光刻機成爲科技「卡脖子」最形象化的議題，在媒體的炒作下，連炒股的老太太都知道艾斯摩爾光刻機。（圖／路透）

產業界技術人士的人都知道，現代各種工業製程需要愈來愈多的跨界技術支援，晶片產業的尖端技術尤其如此，不是買一臺光刻機來插上電就能做出14奈米晶片來。艾斯摩爾的高管曾說，現在就算把設計圖紙都給中國，大陸也沒辦法短時間造得出來，因爲其中很多部件涉及到技術專利與壟斷經營，不是用錢就能買到，若要每個技術環節都自己解決，那需要的人才、資金與時間是很難想像的。

曾在美國英特爾工作的大陸知名科技專家、中國工程院院士、中芯國際技術研發副總裁吳漢明曾表示，一個國家單獨來做一部光刻機，這是不現實的想法。現在許多人一窩蜂地追捧最高端光刻機，要追上7奈米制程，這種好大喜功的心態並不務實。未來大陸半導體業應該以打造完整產業鏈爲目標，畢竟全球擁有能支持完整產業鏈條件的國家極少，因此應該把精力放在雖然落後但是能完全國產化的55奈米工藝上。而在今年稍早的全晶片斷供潮上，中低端晶片也缺貨嚴重，正是加速進大陸自產晶片的難得機遇。

荷蘭ASML製造的光刻機目前在全擁有最高的市佔率，幾乎是壟斷狀態。（圖／ASML)

這些年來許多大陸企業也慢慢體會到技術自主的重要性，吸引了許多人才參與技術開發。例如山東有企業在蝕刻金屬引線框架突破外國的技術壟斷，做出國產的替代品；一向被日本壟斷的光刻膠也有濱州企業自行開發成功；華爲開發EDA軟體也有些成果出來，另外還有半導體封裝、晶片光刻技術也開發出不少專利技術。這些點點滴滴的技術積累，未來都是在大陸內部形成產業鏈的重要成分。

目前大陸國產光刻機的上海微電子從去年中就宣稱進入28奈米與14奈米，但是今年接受《日經新聞》訪問時表示，這兩個製程的成品率不高，仍有待持續改進。圖爲上海微電子光刻機。（圖／網路）

誠如許多專家所言，大陸在人才市場資金與技術上都有相當的條件，政府也有足夠的意願來推進，但一些在其他國家產業中出現的發展困境，大陸也同樣都有。大陸有技術的人不少，但體制與政策環境沒辦法讓他們專心投入；政府給政策支持很強，但主事者官員想的是短期見效與國際知名，不是踏踏實實一步一腳印；媒體吹捧的是「高屋建瓴、彎道超車」，不屑於「苦苦追趕」。從近期爆發的幾個半導體業爛尾大案來看，如武漢弘芯、濟南泉芯、成都格芯、德淮半導體、坤同半導體等等，都是動輒數百億、上千億的大投資案，最後都成爲難以收拾的爛攤子，顯見心急做不好事，政府管理能力還有改進空間，未來要追上世界頂尖科技龍頭，政府官員這關可能會是較難跨越的弱點。