陸「7奈米以下」晶片光刻技術獲專利！外媒：陸正迎頭趕上

上海微電子裝備（集團）股份有限公司日前公佈了一系列製造7奈米以下晶片關鍵能力的專利，受到德國等海外專業媒體的注意。（示意圖:shutterstock/達志）

中國大陸在先進晶片製造領域正逐漸縮小與西方的差距。外媒報導，上海微電子裝備（集團）股份有限公司日前公佈了一系列製造7奈米以下晶片關鍵能力的專利，該消息也得到了德國等海外專業媒體的注意，稱大陸在晶片領域正在迎頭趕上。

德國之聲引述包括「芯智訊」在內的網路媒體報導稱，大陸國家智慧財產權局於10日披露了一項名爲「極紫外輻射發生裝置及光刻設備」的發明專利，內容涉及極紫外輻射（EUV）發生裝置及光刻設備，申請者爲上海微電子裝備（集團）股份有限公司。

報導指，EUV光刻技術是一種先進的晶片製造技術，可以在半導體晶圓上繪製極其精細的電路，從而生產出更小、更強大的晶片。這項技術使用極紫外光（EUV）作爲光源，比傳統光刻技術能實現更高的精度。擁有EUV光刻技術專利意味着掌握了製造7奈米以下晶片的關鍵能力。

據相關報導，上海微電子此次披露的專利主要涉及EUV 光源和光刻設備，其中重點的極紫外輻射發生器（光源）主要包括腔體、靶材發生器、雷射發生器、收集鏡、電極板、氣控零件等關鍵零件。

該消息也引起了德國科技時政類媒體Telepolis的關注。該媒體近日報導稱，中國大陸在晶片領域正在迎頭趕上。

報導認爲，中國的技術進步幾乎勢不可擋。中國光刻設備市場99％的份額由荷蘭艾司摩爾（AMSL）及日本的尼康和佳能控制。只有艾司摩爾生產7奈米以下晶片的設備。然而，艾司摩爾在爲中國大陸客戶提供服務方面面臨壓力，中國是其僅次於臺灣的第二大市場。

根據2023年年報，艾司摩爾僅能滿足中國大陸訂單的50％。據香港《南華早報》報導，自9月6日起，艾司摩爾在中國大陸提供零件、軟體更新和系統維護需要獲得荷蘭許可證。此前，需在美國獲得出口許可。

而據陸媒報導，中國大陸的通訊設備公司華爲最新推出的Mate XT三摺疊螢幕手機採用的麒麟9000處理器基於5奈米工藝製成。這也表明儘管備受國際制裁，陸企仍有能力生產出7奈米以下的先進晶片。

但與此同時，也有分析人士認爲，華爲和其合作伙伴找到了規避晶片設備出口管制的管道，目前還沒有壓倒性證據表明華爲擁有這些關鍵技術的完全本土供應鏈。