臺積電CEO魏哲家訪問荷蘭ASML 1.6nm節點競爭開啓

【太平洋科技資訊】近日，據韓媒 Business Korea 報道，臺積電首席執行官魏哲家撇開了原定於 5 月 23 日舉行的“臺積電 2024 技術研討會”，前往荷蘭訪問位於 Eindhoven 的 ASML 總部，以及訪問德國 Ditzingen 的工業激光專業公司 TRUMPF。

魏哲家的這一行動可能與臺積電目前正在考慮的未來工藝技術有關。據報道，臺積電正考慮爲劃於 2026 年下半年量產的 1.6 納米產品 A16 之後的工藝引入 High NA EUV 設備。High NA EUV 是一種高數值孔徑的極紫外光刻技術，它將有助於實現更小的芯片尺寸和更高的性能。

而ASML 是全球光刻領域的領先企業，其首席執行官 Christophe Fouquet 在社交媒體上透露了魏哲家的訪問，並表示他們向魏總介紹了最新的技術和新產品，包括 High NA EUV 設備將如何實現未來的半導體微處理技術。這表明 ASML 在 High NA EUV 設備方面具有領先的技術和產品，並有可能與臺積電建立更緊密的合作關係。

魏哲家也訪問了德國的 TRUMPF ，這是一家工業激光專業公司。TRUMPF 首席執行官 Nicola Leibinger-Kammüller 也通過社交媒體透露了魏哲家的行蹤，並表示其爲半導體行業強大的合作伙伴關係。

臺積電的張曉強博士在出席阿姆斯特丹舉辦的技術研討會曾直言：“ASML 的 High-NA EUV 太貴了，我非常喜歡 High-NA EUV 的能力，但不喜歡它的價格。”

臺積電正在考慮引入 High NA EUV 設備以實現更先進的工藝技術，同時也在尋求降低成本的方法。ASML 和 TRUMPF 作爲全球領先的半導體制造企業，與臺積電建立了更緊密的合作關係，他們將共同推動半導體產業的發展，爲公衆提供更強大，更便宜的產品。

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