經部助攻9廠 拚DUV光阻劑本土生產

中國大陸突破荷蘭管制，成功研發國產DUV曝光機，震驚各界。圖爲艾司摩爾（ASML）曝光機。（路透）

中國大陸本月成功研發國產DUV曝光機，震驚各界。臺灣則是主力放在半導體關鍵材料自主化，經濟部二期補助9家廠商，年底將進行終端產線驗證。最快明年深紫外光（DUV）曝光機的光阻劑核心材料，可打入臺積電、聯電等代工大廠產線中。

雖然荷蘭艾司摩爾（ASML）擴大管制曝光機出口大陸，但中國卻研發出國產DUV，能生產8奈米及以下晶片，突破封鎖。臺灣自然沒有被管制問題，但過去晶圓代工製程發生過光阻劑大缺貨狀況，爲了把關鍵材料掌握在自己手中，經濟部推動兩期半導體先進製程與封裝材料研發，第二期今年底完成。

2024年臺灣半導體材料需求佔全球28%，經濟部表示，二期補助9家供應鏈業者開發8項材料，包含深紫外光光阻材料、3到5奈米制程原子層沉積前驅物、幹膜光阻材料等。

微影製程是在晶圓上製作電路圖案，隨着精細度有DUV、EUV（極紫外光）差別。光阻劑是一種光敏感材料，由樹脂、光敏感劑、溶劑和添加劑等組成，乃微影不可或缺重要材料。至於曝光機的光罩部分，國內像是家登都有生產，比例已不低。

法人智庫工研院表示，目前國內光阻劑都掌握在日本手上，關鍵材自主計劃希望把周邊材料、配方都改由國產化。第二期的光阻劑研發就是往更核心材料發展，像是感光樹脂中的起始劑、添加劑等。

等到光阻劑材料年底驗證完後，工研院說，最快明年廠商就可試量產。至於供應量多少，要看上游臺積電、聯電、力積電需求，涉及商業機密，但目標是逐步取代從日本進口。

工研院強調，最終國內會走向DUV光阻劑等周邊材生產全部本土化，下一步還會朝EUV周邊材自主化去走，不過需要時間。