《國際產業》ASML出貨全球首臺High-NA EUV 英特爾搶頭香

新型的微影機每臺造價超過3億美元，將協助英特爾製造更小和更快的晶片。

艾司摩爾在X平臺發表了一張照片，顯示該機器的一部分正從荷蘭的Veldhoven市總部出發，機器放在一個保護殼裡，周圍繫着一條紅帶。

艾司摩爾在聲明中說：「我們很高興、並自豪地把我們第一臺High NA EUV系統運送給英特爾」。

艾司摩爾主導着全球微影系統市場，該機器使用雷射光來創造晶片的電路。High NA EUV機臺組裝起來會比一輛卡車更大，目前正裝在250個獨立的箱子運輸，其中包括13個大型貨櫃。預計該系統將在2026年或2027年開始正式投入於商業晶片製造。

英特爾是在2022年首次下訂High NA EUV。已經下訂該款機臺的大廠包括臺積電(2330)、三星電子、SK海力士、美光。