林本堅：美國難阻中國芯片發展

臺積電前副總裁林本堅表示，美國不可能完全阻止中國改進芯片技術，試圖限制中國的進步，這是徒勞的。

林本堅本週接受採訪時表示，美國應該專注於保持其芯片設計領先地位，而不是對抗中國的整體國家戰略。

林本堅在業界備受推崇，因爲他是第一個提出浸沒式微影曝光技術的人，這是ASML核心產品所依賴的技術。林本堅說，除了努力達到5nm里程碑之外，中國可能還會嘗試新材料或先進芯片封裝，以製造更強大的半導體。

林本堅表示，中國可以使用現有的舊機器製造更復雜的芯片。

林本堅補充說：美國真正應該做的是專注於保持其芯片設計領先地位，而不是試圖限制中國的進步，這是徒勞的，因爲中國正在採取舉國戰略來發展芯片產業。