韓國SK海力士前中國員工竊密獲判18個月監禁 罰款44萬元

三星電子、SK海力士等韓國晶片公司加強員工安全檢查等預防措施，但仍持續斷面臨技術泄露到中國的風險。（圖／美聯社）

隨着半導體技術與國家產業實力關係愈來愈密切，涉及國家重點產業資訊的泄漏被視爲嚴重犯罪行爲。近期韓國知名半導體SK海力士公司一名前中國大陸員工涉嫌竊取核心技術機密，遭韓國法院判定違法，獲處一年半監禁併科2000 萬韓元（約合臺幣44萬元）罰款。

據《芯智訊》報導，韓國水原地方法院驪州分院於週四認定SK海力士公司前中國員工違反《工業技術泄露防止及保護法》，判處監禁與罰款。這位36歲的女性爲中國公民，2013年開始在 SK 海力士負責分析缺陷半導體設計的部門工作，隨後調被至SK海力士中國上海分公司，並且在 2020 年至 2022 年期間負責公司間交易的諮詢工作。

報導指出，該名女員工在2022年6月被安排回到韓國工作後，於同月跳槽至中國某知名科技公司，以獲得更高的年薪。但是她在離開SK海力士之前，被懷疑違反規定列印了約4000頁有關半導體制造流程解決方案的技術資料，其列印行爲也被詳細記錄下來。SK海力士一位發言人表示，公司意識到這名前員工列印這些資訊，就立即向調查機構報告，目前正在配合對嫌疑人的調查，並監督調查情況。

韓國警方在收到 SK 海力士報案後展開調查，並在2024年4月該員工再次入境時在機場予以逮捕。法院審理後指出，被告離開SK海力士公司之前，在保安鬆懈的中國上海分公司將技術4千多頁技術資料列印成文件，並疑似分批帶回家中。但被告堅稱列印資料使用後已立即粉碎，目的是爲了研究半導體和接管業務，無意泄露技術。但此一辯辭遭法院駁回，認定她是爲轉投新僱主而藉機竊取資訊。

報導說，三星電子、SK海力士等韓國晶片公司已加強員工安全檢查等預防措施，但仍不斷面臨技術泄露到中國的風險，韓國研究機構認爲這可能造成高達數兆韓元的經濟損失。今年4月，三星也面臨類似案件。

此次泄露的資訊涉及DRAM製造工藝中使用的原子層沉積（ALD）設備，中國尚未能夠開發這種設備。

報導表示，韓國的海外技術泄密案件數量持續增加。據員警廳統計，去年2月至10月，相關案件審理數量達21起，比前一年增加了75%。這是自2013年以來的最高值。